地形加載效率翻倍：通過優(yōu)化數(shù)據(jù)渲染算法，在保持地形細節(jié)（如微小起伏、紋理特征）不丟失的前提下，加載速度提升 2 倍。無論是大面積樣本的宏觀地形觀察，還是局部微觀結構的精細查看，都能實現(xiàn) “秒級響應"，告別等待。

啟動時間縮短 5 倍：優(yōu)化軟件后臺進程與資源占用，啟動時間從原先的數(shù)分鐘壓縮至數(shù)十秒。尤其適合多批次樣本連續(xù)測量場景，減少設備閑置時間，提升單日檢測量。

ePSI 技術雙算法優(yōu)化：擴展相移干涉測量（ePSI）技術新增 “平滑" 與 “步長" 兩種專用算法。針對平整度測量，“平滑算法" 可過濾環(huán)境噪聲，確保平面度數(shù)據(jù)穩(wěn)定性；針對臺階高度測量，“步長算法" 能精準識別臺階邊界，哪怕是納米級微小臺階也能準確量化，滿足半導體芯片、光學元件等高精度測量需求。

新峰值算法應對復雜紋理：針對粗糙、不規(guī)則表面（如金屬磨損面、涂層紋理），全新峰值算法可精準捕捉微小峰、尖銳谷的形態(tài)參數(shù)，解決傳統(tǒng)算法 “漏測"“誤判" 問題，為材料表面性能評估提供更可靠的數(shù)據(jù)依據(jù)。

20 倍高 NA 物鏡全新上市：同步推出 20 倍放大倍率、數(shù)值孔徑 0.6 的專用物鏡。相比常規(guī)物鏡，其更高的數(shù)值孔徑可提升光通量與分辨率，尤其適合高傾斜度樣本（如斜面晶體、異形構件）的成像，實現(xiàn) “傾斜表面清晰成像"。

新增相機伽馬值調(diào)節(jié)：針對反光不均勻、高對比度的復雜樣本（如金屬反光面、透明與不透明混合結構），可通過調(diào)節(jié)相機伽馬值優(yōu)化成像效果，增強細節(jié)對比度，讓對焦更精準，避免因樣本反光導致的對焦偏差。

雙技術實現(xiàn)超低噪聲測量：整合 ePSI 技術與 CSI 智能抗噪聲技術，一方面將測量噪聲控制在 0.1 納米級別，確保數(shù)據(jù)精度；另一方面，CSI 技術可根據(jù)樣本特性自動調(diào)整采集參數(shù)，在可測量范圍（如從納米級到微米級結構）的同時，進一步壓低系統(tǒng)噪聲，實現(xiàn) “高精度 + 寬范圍" 的雙重優(yōu)勢。

從數(shù)據(jù)分析到圖像查看，從精準測量到微觀掃描，Sensofar 此次軟件更新覆蓋科研與工業(yè)檢測的全流程需求。無論是追求效率的批量檢測，還是聚焦精度的前沿科研，這些升級都將成為用戶提升工作質(zhì)量的 “得力助手"。

未來，Sensofar 將持續(xù)迭代軟件功能，以用戶需求為核心，推動精密測量技術向更高效、更精準、更智能的方向發(fā)展。關注我們，獲取更多軟件更新動態(tài)與應用案例！