共聚焦白光干涉輪廓儀S lynx2 應(yīng)用領(lǐng)域
Sensofar的共聚焦白光干涉輪廓儀S lynx2,憑借其非接觸、三維、可量化的測量特點,在多個需要對表面微觀形貌進行分析的行業(yè)中找到了應(yīng)用場景。
1. 半導(dǎo)體與微電子制造:
在集成電路和微機電系統(tǒng)(MEMS)的制造過程中,需要對光刻膠圖形、刻蝕后的結(jié)構(gòu)、化學(xué)機械拋光(CMP)后的表面、以及各種薄膜的厚度和臺階高度進行測量。S lynx2的白光干涉模式適合測量光滑硅片上的微小臺階和薄膜厚度(通過測量臺階邊緣),而其共聚焦模式可用于檢查粗糙度較高的襯底或背面處理表面。
2. 精密加工與模具工業(yè):
用于評估車、銑、磨、拋光等工藝加工后的工件表面質(zhì)量??梢詼y量表面粗糙度參數(shù)(如Sa, Sz),評估紋理方向性,檢查模具型腔的表面光潔度和微觀紋理的復(fù)制效果。對于刀具,可以測量刃口半徑和磨損形貌。
3. 汽車與航空航天部件檢測:
發(fā)動機關(guān)鍵部件(如活塞環(huán)、缸套、渦輪葉片)的表面處理層(如涂層、鍍層)的厚度、均勻性和表面形貌是影響性能的重要因素。S lynx2可以對涂層截面或特定區(qū)域進行三維形貌測量和粗糙度分析。此外,也可用于檢查密封面的平整度、齒輪面的磨損情況等。
4. 顯示與觸控面板行業(yè):
用于測量液晶顯示器(LCD)或有機發(fā)光二極管(OLED)面板中的間隔物(Spacer)高度、彩色濾光片(CF)的厚度與均勻性、以及像素結(jié)構(gòu)尺寸。在觸摸屏制造中,可用于檢查ITO(氧化銦錫)導(dǎo)電薄膜的線路形貌和缺陷。
5. 材料科學(xué)與研發(fā):
在研究新材料時,表面形貌是重要表征參數(shù)。S lynx2可用于分析金屬材料的晶粒結(jié)構(gòu)、腐蝕形貌;陶瓷材料的燒結(jié)表面與斷口;高分子材料的注塑表面、薄膜表面;復(fù)合材料的界面結(jié)合情況等。其三維數(shù)據(jù)可用于計算表面積、體積、孔隙率等參數(shù)。
6. 醫(yī)療設(shè)備與生物材料:
在醫(yī)療器械領(lǐng)域,可用于測量植入物(如人工關(guān)節(jié)、牙科種植體)的表面粗糙度和紋理,這些特征可能影響其生物相容性和骨整合能力。也可用于分析藥物涂層支架的表面涂層形貌與均勻性。
7. 學(xué)術(shù)研究與教育:
在大學(xué)和科研院所,S lynx2可作為教學(xué)工具和科研設(shè)備,用于物理、化學(xué)、材料、機械、微電子等專業(yè)的實驗課程和課題研究,幫助學(xué)生和研究人員直觀地觀察和量化微觀表面結(jié)構(gòu)。
8. 質(zhì)量控制與失效分析實驗室:
在工廠的質(zhì)檢部門或第三方檢測機構(gòu),S lynx2可用于對來料、生產(chǎn)線樣品或成品進行常規(guī)或抽樣檢驗。當產(chǎn)品出現(xiàn)功能失效時,可用于進行根源分析,如檢查是否存在異常的劃痕、凹坑、凸起、尺寸偏差或涂層脫落等問題。
9. 光學(xué)元件與薄膜工業(yè):
可用于測量光學(xué)透鏡、反射鏡的表面面形誤差(局部起伏)、檢查增透膜等光學(xué)薄膜的表面質(zhì)量,以及測量微結(jié)構(gòu)光學(xué)元件(如衍射元件、微透鏡陣列)的三維形貌。
綜上所述,共聚焦白光干涉輪廓儀S lynx2的應(yīng)用覆蓋了從基礎(chǔ)研發(fā)到工業(yè)生產(chǎn)的多個環(huán)節(jié)。其將兩種測量技術(shù)集于一體的特點,為用戶在面對不同反射特性、不同粗糙度的多樣化樣品時,提供了靈活的選擇,使其成為表面計量領(lǐng)域一個值得考慮的選項。
共聚焦白光干涉輪廓儀S lynx2 應(yīng)用領(lǐng)域