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白光干涉儀S neox的涂層厚度測量

產(chǎn)品簡介

白光干涉儀S neox的涂層厚度測量:Sensofar S neox通過非接觸式臺(tái)階高度測量,可精確量化涂層或薄膜的厚度與均勻性,為質(zhì)量控制和工藝研究提供關(guān)鍵數(shù)據(jù)。

產(chǎn)品型號(hào):
更新時(shí)間:2026-01-23
廠商性質(zhì):代理商
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白光干涉儀S neox的涂層厚度測量

在許多工業(yè)應(yīng)用和科研領(lǐng)域中,對(duì)基材上的涂層、薄膜厚度進(jìn)行精確測量是常見的需求。涂層的厚度直接影響其光學(xué)、電學(xué)、機(jī)械和防腐性能。Sensofar S neox 3D光學(xué)輪廓儀提供了一種非接觸式測量涂層厚度的方法,特別適用于需要測量局部厚度或無法進(jìn)行截面破壞性檢測的場景。


S neox測量涂層厚度的原理通?;趯?duì)臺(tái)階高度的測量。常用的方法是人為制造一個(gè)臺(tái)階:在涂層上制造一個(gè)微小缺口,使基材暴露出來。這可以通過輕微刮擦、使用掩膜或選擇性蝕刻等方式實(shí)現(xiàn),關(guān)鍵是確保臺(tái)階邊緣清晰。
然后,使用S neox的白光干涉模式或高倍共聚焦模式掃描這個(gè)臺(tái)階區(qū)域。儀器會(huì)精確獲取從涂層表面到暴露的基材表面的高度差,這個(gè)高度差即為涂層的厚度。
這種方法的優(yōu)勢包括:
非破壞性(相對(duì)截面法):無需將樣品切開制樣,對(duì)樣品本身破壞較小。
高分辨率:白光干涉模式可提供亞納米級(jí)的垂直分辨率,適合測量從納米到微米級(jí)的薄膜厚度。
定位測量:可以精確選擇樣品的特定位置進(jìn)行厚度測量,研究涂層的均勻性。
同時(shí)獲得形貌信息:除了厚度值,還能觀察涂層表面的形貌、粗糙度以及臺(tái)階邊緣的質(zhì)量。


需要注意的是,此方法需要制備一個(gè)清晰的臺(tái)階,且測量結(jié)果的有效性取決于臺(tái)階邊緣的質(zhì)量。對(duì)于非常硬或脆的涂層,制備清晰臺(tái)階可能需要技巧。對(duì)于多層膜結(jié)構(gòu),測量會(huì)變得復(fù)雜。

盡管如此,對(duì)于許多常見的涂層,Sensofar S neox提供了一種有效的厚度測量方案。它將厚度測量轉(zhuǎn)化為精確的臺(tái)階高度測量,為涂層工藝的質(zhì)量控制和研究開發(fā)提供了一種可供選擇的手段。

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