基恩士 VK-X3000：微觀世界的探索利器

產(chǎn)品簡介

基恩士 VK-X3000：微觀世界的探索利器
VK-X3000的用途因此十分廣泛。它可以用于測(cè)量金屬件的加工粗糙度，檢查玻璃表面的微小劃痕，評(píng)估高分子材料的磨損情況，分析涂層或鍍層的厚度與均勻性，甚至觀察生物材料的表面結(jié)構(gòu)。這種對(duì)多材料的適應(yīng)性，使其成為跨行業(yè)研發(fā)和品質(zhì)管理中一種有用的工具。

產(chǎn)品型號(hào)：

更新時(shí)間：2026-01-06

廠商性質(zhì)：代理商

訪問量：417

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光學(xué)顯微鏡

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有機(jī)光電器件的激光成型

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在科學(xué)研究與工業(yè)生產(chǎn)的諸多領(lǐng)域，深入探索微觀世界的奧秘、精準(zhǔn)把握微觀結(jié)構(gòu)的細(xì)節(jié)至關(guān)重要?；魇?VK-X3000 激光共聚焦顯微鏡，憑借優(yōu)良的技術(shù)、出色的性能與人性化的設(shè)計(jì)，成為微觀觀測(cè)與分析的得力助手。基恩士 VK-X3000：微觀世界的探索利器

一、產(chǎn)品細(xì)節(jié)與技術(shù)原理

基恩士 VK-X3000 采用正置分體式測(cè)量光路結(jié)構(gòu)，這種設(shè)計(jì)有助于優(yōu)化光路傳輸，減少干擾，保證成像的清晰度與穩(wěn)定性。設(shè)備配備 16BIT 光電倍增器，可實(shí)現(xiàn)高靈敏度的光信號(hào)檢測(cè)，將微弱的光信號(hào)轉(zhuǎn)化為精確的電信號(hào)，配合面陣探測(cè)器彩色 CMOS，能捕捉到豐富的色彩與細(xì)節(jié)信息，真實(shí)還原樣品微觀結(jié)構(gòu)的色彩特征。

該顯微鏡支持激光共聚焦、聚焦變化以及白光干涉三種測(cè)量模式。激光共聚焦模式下，通過點(diǎn)光源發(fā)射激光，經(jīng) X - Y 掃描光學(xué)系統(tǒng)對(duì)觀察視野進(jìn)行掃描，受光元件檢測(cè)各像素反射光，在 Z 軸方向驅(qū)動(dòng)物鏡反復(fù)掃描，以反射光量最高的 Z 軸位置為焦點(diǎn)確定高度信息，此模式能有效排除焦點(diǎn)位置以外的反射光，實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)量與高分辨率觀察。聚焦變化模式則基于景深原理，以合適移動(dòng)間距從下往上移動(dòng)物鏡，同時(shí)利用 560 萬像素高精細(xì)彩色 C - MOS 相機(jī)捕捉高畫質(zhì)圖像的焦點(diǎn)變化，通過比較相鄰像素亮度差確定聚焦位置，進(jìn)而獲取目標(biāo)物的 3D 測(cè)量數(shù)據(jù)，并合成聚焦于整體的觀察圖像。白光干涉模式通過 CMOS 元件觀測(cè)光的干涉圖樣來求解三維形狀，使用內(nèi)置基準(zhǔn)平面鏡的干涉物鏡，將白色 LED 光照射到基準(zhǔn)平面鏡與目標(biāo)物上，根據(jù)干涉條紋計(jì)算目標(biāo)物高度，對(duì)測(cè)量微小尺寸與表面微觀形貌極為有效。

二、產(chǎn)品性能

分辨率與精度：在激光共聚焦模式下，不同物鏡展現(xiàn)出優(yōu)秀的高度與寬度重復(fù)性精度。如 10X 物鏡高度重復(fù)性精度 σ 可達(dá) 100nm，寬度重復(fù)性精度 3σ 為 400nm；20X 物鏡高度重復(fù)性精度 σ 為 40nm，寬度重復(fù)性精度 3σ 為 100nm；50X 物鏡高度重復(fù)性精度 σ 達(dá) 20nm，寬度重復(fù)性精度 3σ 為 50nm。聚焦變化模式下，5X 物鏡高度重復(fù)性精度 σ 為 500nm，寬度重復(fù)性精度 3σ 為 400nm 等，不同倍率物鏡均能滿足多種精度要求的測(cè)量場景。其高度測(cè)量精度可達(dá) 0.2 + l/100μm 或更低（l 為測(cè)量長度），寬度精度為測(cè)量值 ±2% 或更低，能精準(zhǔn)測(cè)量微小形狀變化，即便是納米級(jí)別的細(xì)節(jié)也能清晰呈現(xiàn)。

測(cè)量范圍：載物臺(tái) X/Y/Z 軸最大行程分別為 100mm@X 軸、100mm@Y 軸、50mm@Z 軸，可適應(yīng)不同尺寸樣品的檢測(cè)需求。同時(shí)，該顯微鏡能覆蓋從微觀納米級(jí)到宏觀毫米級(jí)的測(cè)量范圍，無論是微小的芯片元件，還是尺寸較大的機(jī)械零件表面結(jié)構(gòu)，都能進(jìn)行全面且細(xì)致的觀測(cè)分析。

掃描速度：通過優(yōu)化感應(yīng)技術(shù)與測(cè)量進(jìn)程，基恩士 VK-X3000 在保證測(cè)量精度的同時(shí)，具備較快的掃描速度。表面測(cè)量最快可達(dá) 125Hz，線測(cè)量最高可達(dá) 7900Hz，可在短時(shí)間內(nèi)獲取大量測(cè)量數(shù)據(jù)，顯著提升工作效率，尤其適用于批量樣品檢測(cè)或?qū)r(shí)間要求較高的實(shí)驗(yàn)場景。

三、用材與設(shè)計(jì)

光學(xué)部件：所配物鏡選用優(yōu)質(zhì)光學(xué)材料，不同倍率物鏡具備相應(yīng)出色性能。如 5X 物鏡數(shù)值孔徑 NA≥0.13，工作距離 WD22.5mm；10X 物鏡 NA≥0.30，WD16.5mm 等，能滿足不同觀測(cè)深度與分辨率需求。同時(shí)，采用連畫面邊緣都少有失真的遠(yuǎn)心鏡頭，確保在整個(gè)視野內(nèi)進(jìn)行高精度測(cè)量，如實(shí)捕捉目標(biāo)物的形狀和大小。光源方面，配備 661nm 半導(dǎo)體紅色激光（II 類激光）以及白色 LED 光源，為不同測(cè)量模式提供穩(wěn)定可靠的照明。

機(jī)身與載物臺(tái)：機(jī)身設(shè)計(jì)緊湊合理，便于安置與操作。載物臺(tái) XY 軸支持電動(dòng)運(yùn)行方式，方便快速調(diào)整樣品位置；Z 軸支持電動(dòng)及手動(dòng)運(yùn)行方式，滿足精細(xì)調(diào)節(jié)需求。載物臺(tái)采用穩(wěn)固材質(zhì)，可穩(wěn)定承載各類樣品，確保測(cè)量過程中樣品不會(huì)發(fā)生位移或晃動(dòng)，影響測(cè)量結(jié)果。

四、用途

材料科學(xué)研究：在金屬材料研究中，可用于觀察金屬晶體結(jié)構(gòu)、分析材料內(nèi)部缺陷與微觀組織形態(tài)，幫助研究人員了解材料性能與微觀結(jié)構(gòu)的關(guān)系，為材料研發(fā)與性能優(yōu)化提供依據(jù)；對(duì)于高分子材料，能觀測(cè)材料表面的微觀形貌、相分離結(jié)構(gòu)等，助力開發(fā)新型高分子材料。

半導(dǎo)體行業(yè)：檢測(cè)芯片表面的平整度、線路高度與寬度、芯片封裝質(zhì)量等。例如，通過測(cè)量芯片線路的尺寸精度，判斷芯片制造工藝是否達(dá)標(biāo)，確保芯片性能穩(wěn)定可靠，提升半導(dǎo)體產(chǎn)品的良品率。

生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域：觀察生物組織切片的微觀結(jié)構(gòu)，如細(xì)胞形態(tài)、組織結(jié)構(gòu)層次等，輔助病理診斷；在生物材料研究中，分析生物植入體表面的微觀特征，評(píng)估其生物相容性，為生物醫(yī)學(xué)工程的發(fā)展提供支持。

精密制造與質(zhì)量控制：在精密模具制造中，測(cè)量模具表面的粗糙度、尺寸精度以及微小瑕疵，保障模具制造質(zhì)量；在電子元件制造中，對(duì)微小電子元件的尺寸、形狀進(jìn)行精確測(cè)量與質(zhì)量檢測(cè)，確保元件符合生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)。

五、基恩士 VK-X3000 參數(shù)表

項(xiàng)目	詳情
設(shè)備型號(hào)	VK-X3000
測(cè)量光路結(jié)構(gòu)	正置分體式
探測(cè)器模塊	16BIT 光電倍增器、面陣探測(cè)器彩色 CMOS
載物臺(tái)運(yùn)行方式	XY 軸電動(dòng)，Z 軸電動(dòng)及手動(dòng)
載物臺(tái)行程	X 軸 100mm，Y 軸 100mm，Z 軸 50mm
測(cè)量模式	激光共聚焦、聚焦變化、白光干涉
物鏡數(shù)值孔徑及工作距離	5X 物鏡：NA≥0.13，WD22.5mm；10X 物鏡：NA≥0.30，WD16.5mm；20X 物鏡：NA≥0.46，WD3.1mm；50X 物鏡：NA≥0.8，WD0.54mm；150X APO 物鏡：NA≥0.95，WD0.2mm；20X 干涉物鏡：WD4.7mm
光源類型	661nm 半導(dǎo)體紅色激光（II 類激光）、白色 LED 光源
激光共聚焦模式高度重復(fù)性精度 σ	10X 物鏡：100nm；20X 物鏡：40nm；50X 物鏡：20nm
激光共聚焦模式寬度重復(fù)性精度 3σ	10X 物鏡：400nm；20X 物鏡：100nm；50X 物鏡：50nm
聚焦變化模式高度重復(fù)性精度 σ	5X 物鏡：500nm；10X 物鏡：100nm；20X 物鏡：50nm；50X 物鏡：30nm
聚焦變化模式寬度重復(fù)性精度 3σ	5X 物鏡：400nm；10X 物鏡：400nm；20X 物鏡：120nm；50X 物鏡：65nm
掃描速度	表面：125Hz，線：7900Hz
總放大倍數(shù)	42× 至 28800×
視野范圍	11 至 7398μm
電源要求	100 至 240VAC，50/60Hz，150VA
環(huán)境要求	環(huán)境溫度 + 15 至 28°C，相對(duì)濕度 20 至 80% RH（無冷凝）
重量	約 3kg（控制器）

六、使用說明

樣品準(zhǔn)備：根據(jù)樣品性質(zhì)與觀測(cè)需求，選擇合適的樣品固定方式，確保樣品穩(wěn)固放置在載物臺(tái)上，且觀測(cè)區(qū)域位于物鏡正下方。對(duì)于生物樣品，可能需要進(jìn)行切片、染色等預(yù)處理；對(duì)于金屬、電子元件等樣品，需確保表面清潔，無雜質(zhì)、油污等影響觀測(cè)的物質(zhì)。

設(shè)備開機(jī)與參數(shù)設(shè)置：接通電源，開啟設(shè)備。根據(jù)樣品類型與測(cè)量目的，在操作界面選擇相應(yīng)的測(cè)量模式（激光共聚焦、聚焦變化或白光干涉）。設(shè)置物鏡倍率、掃描范圍、掃描速度、分辨率等參數(shù)。例如，若觀測(cè)芯片表面細(xì)微線路，可選擇高倍率物鏡與較高分辨率；若測(cè)量較大尺寸樣品的整體形貌，可適當(dāng)擴(kuò)大掃描范圍，選擇較低倍率物鏡。

對(duì)焦與測(cè)量：通過手動(dòng)或電動(dòng)調(diào)節(jié) Z 軸，使物鏡接近樣品，利用激光自動(dòng)對(duì)焦功能初步確定焦點(diǎn)位置，再進(jìn)行微調(diào)，直至獲得清晰的圖像。啟動(dòng)掃描程序，設(shè)備將按照設(shè)定參數(shù)對(duì)樣品進(jìn)行掃描，獲取微觀結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)。掃描過程中，可實(shí)時(shí)觀察圖像質(zhì)量，若發(fā)現(xiàn)異常，可暫停掃描，調(diào)整參數(shù)后重新測(cè)量。

數(shù)據(jù)處理與分析：測(cè)量完成后，設(shè)備配套軟件自動(dòng)生成測(cè)量數(shù)據(jù)與圖像。利用軟件內(nèi)置的 292 種分析工具，對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行處理分析，如測(cè)量高度、寬度、面積、體積，計(jì)算粗糙度，進(jìn)行幾何測(cè)量等?？赏ㄟ^動(dòng)態(tài)三維顯示功能，從不同角度觀察樣品微觀結(jié)構(gòu)，更直觀地了解樣品特征。

結(jié)果保存與設(shè)備關(guān)閉：將測(cè)量數(shù)據(jù)與分析結(jié)果以合適格式（如模板報(bào)告模式 JPEG/TIF/BMP、CSV 格式文件、Excel 多文件報(bào)告格式等）保存至指定存儲(chǔ)設(shè)備。關(guān)閉設(shè)備電源，清理載物臺(tái)，為下一次使用做好準(zhǔn)備。

基恩士 VK-X3000 激光共聚焦顯微鏡以其的產(chǎn)品細(xì)節(jié)、出色的性能表現(xiàn)、優(yōu)質(zhì)的用材設(shè)計(jì)以及廣泛的用途，為各行業(yè)用戶提供了強(qiáng)大的微觀檢測(cè)與分析能力，助力科研人員突破研究瓶頸，幫助企業(yè)提升產(chǎn)品質(zhì)量與生產(chǎn)效率，在微觀世界的探索中發(fā)揮著重要作用。

基恩士VK?X3000：參數(shù)表與型號(hào)對(duì)比

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